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真空镀膜设备溅射镀膜膜层的优点

2020-08-29

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       我们市面上好多产品都是通过磁控溅射方式进行镀膜的,磁控溅射技术是最常见的一种镀膜方式,也被众多真空镀膜设备厂家所青睐,那么真空镀膜设备磁控溅射镀膜膜层有哪些优点呢,下面汇成真空小编为大家详细介绍一下:



       以溅射的方法进行真空镀膜,由于其镀膜方式的不同,同样的镀材所制备的薄膜效果也会不一样的,虽然肉眼无法看出来,但确实拥有一定的优势。
       膜厚稳定性好,由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系,电流越高,溅射效率越大,相同时间内,所镀膜层的厚度相对就大了,因为只要把电流数值控制好,需要镀多厚,或者多薄的膜层都可以了,当然这个厚度是在可允许的范围内,而且控制好电流,无论重复镀多少次,膜层厚度都不会变化,膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。
        膜层结合力强,在溅射过程中,有部分电子撞击到基材表面,激活表面原子,并且产生清洁的作用,而镀材通过溅射所获得的能量比蒸发所获得的能量高出1到2个数量级,带有如此高能量的镀材原子撞击到基材表面时,有更多的能量可以传递到基材上,产生更多的热能,使被电子激活的原子加速运动,与部分镀材原子更早互相溶合到一起,其他镀材原子紧随着陆续沉积成膜,加强了膜层与基材的结合力。
       镀材范围广,由于真空镀膜设备溅射镀膜是通过氩离子的高速轰击使镀材溅射出来的,不像蒸发镀膜由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材,而溅射镀膜几乎所有固体的物质都可以成为镀材。
      由以上几点可以看出溅射真空镀膜确实比蒸发真空镀膜的效果好,其原理的不同决定了溅射制备的膜层厚度更稳定,结合力更强,镀材范围更广。

 
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